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半導(dǎo)體用進(jìn)口高濃度臭氧水生成裝置（MTK）

產(chǎn)品型號(hào)：MTK-HT
品牌：MTK
臭氧濃度：臭氧水濃度高 最大30ppm
臭氧產(chǎn)量：氧氣消耗量～16L/min.
使用氣源：氧氣源
推薦指數(shù)：comment rank 5
冷卻方式：水冷
設(shè)備尺寸： 400*550*850mm
整機(jī)重量：20~100Kg
產(chǎn)地： 日本
購(gòu)機(jī)說(shuō)明：
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產(chǎn)品分類(lèi)樹(shù)

產(chǎn)品詳情

實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)

臭氧知識(shí)

參考文獻(xiàn)

進(jìn)口高濃度臭氧水生成裝置（MTK）
 
參數(shù)
臭氧生成方式：無(wú)聲放電法
將臭氧氣體溶解于純凈水的方法：噴射方式
臭氧水中臭氧的濃度監(jiān)測(cè)：紫外吸收法
臭氧水濃度：更高為30ppm
臭氧水流量：更高50L /min
設(shè)備尺寸：寬度400mm 深度550mm 高度850毫米（標(biāo)準(zhǔn)型）
重量：20　～　100Kg
消耗功率：～３KW
氧氣壓力：為0.1MPa（供給為0.3MPa）
氧氣純度：99.5％（指定）
氧氣消耗量：～16L/min.
供應(yīng)純凈水的壓力：0.20Mpa以上（理想值0.25MPa）
供應(yīng)純凈水的溫度：低于25℃
臭氧氣體生成部的冷卻水溫度：理想值為20℃以下。如無(wú)法實(shí)現(xiàn)，需根據(jù)情況增加冷卻器（可選）。
CO2氣體消耗量（臭氧濃度過(guò)高時(shí)需通過(guò)純凈水注入）：大約100cc/min
半導(dǎo)體用進(jìn)口高濃度臭氧水生成裝置（MTK）(1)
特點(diǎn)
臭氧水濃度高
（更大30ppm）
■臭氧水中無(wú)金屬雜質(zhì)
半導(dǎo)體，液晶，太陽(yáng)能電池等潔凈規(guī)格（臭氧水生成部由氟素樹(shù)脂材料組成）
■臭氧濃度上升快
達(dá)到臭氧更大濃度僅需大約1分鐘
■生成器體積小
長(zhǎng)400mm。寬550mm。高820mm（標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格）
 
用途
?半導(dǎo)體（清洗）
?FPD，液晶（清洗）
?MEMS，傳感器（清潔）
?硬盤(pán)（清洗）
?太陽(yáng)能電池（清潔）
?醫(yī)療（洗手，純凈水管道清洗）
?食品（洗手，消毒，除臭）
 
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